把這家不知道天高地厚，誰才是你得主子的小東陽的光刻機企業(yè)打垮，打的資不抵債的破產清盤機器都當破爛賣。

        這樣他們身為主子，看到不老實，眼睛里面沒有一點的水兒，膽敢不識趣的想要在科技上超過主人的奴才倒霉，他們才會高興的以舒心中塊壘。

        于是在老m錢針引線的主導下，西門子旗下一家成立了將近二十年，里面總共只有31個員工的合資小公司ASML，則被老m看中了，推出來站臺。

        集結大量歐美頂尖科研高校和一流半導體企業(yè)的力量，全力支持ASML研發(fā)新一代193nm制程以下的光刻機，去干翻不長眼的奴才。

        在這個世界上的00年的十月，光刻機的光源波長依然被卡死在193nm已經有好幾年。

        尼康主張用在前代技術的基礎上，采用157nm的F2激光，走穩(wěn)健道路。

        而這一選擇，其實有著很強烈的極限終極的意味，因為即使尼康成功的研發(fā)了157nm制程的F2激光光刻機，那么18到24個月以后呢，怎么還能研發(fā)這一類激光源已經到了極限的157nm制程天塹以下的光刻機？

        新生的EUVLLC聯盟則押注更激進的極紫外技術，在對未來的展望是用僅有十幾納米的極紫外光，刻十納米以下的芯片制程。

        也就是說，ASML現在正在研發(fā)的193nm制程以下的光刻機，使用極紫外技術，是光刻機領域一個新的征程的起點。

        正在做著從零到一，從虛無到實質的嘗試性躍遷。

        假如能夠成功，那么再從一到二，從二到三，則是順理成章的依次類推遞進。

        內容未完，下一頁繼續(xù)閱讀